Mesin pelapis semprot semikonduktor ultrasonik

Mesin pelapis semprot semikonduktor ultrasonik

Penyemprotan atomisasi semikonduktor ultrasonik adalah teknologi deposisi film tipis presisi yang menggunakan energi ultrasonik frekuensi tinggi untuk mengatomisasi bahan semikonduktor (seperti photoresist dan bahan konduktif) menjadi tetesan halus dan seragam. Tetesan ini kemudian disemprotkan secara presisi ke permukaan substrat menggunakan gas pembawa, menghasilkan lapisan film tipis berkualitas tinggi dan seragam. Teknologi ini menawarkan keunggulan seperti efisiensi tinggi, presisi tinggi, kehilangan bahan rendah, dan lapisan tipis yang seragam. Teknologi ini banyak digunakan dalam manufaktur semikonduktor, energi baru, dan pelapisan kaca, menggantikan metode penyemprotan tradisional.

Prinsip Kerja

1. Atomisasi Ultrasonik:

Inti dari perangkat ini adalah nosel ultrasonik, yang berisi transduser yang mengubah energi listrik menjadi getaran mekanis frekuensi tinggi.

2. Atomisasi Cairan:

Saat cairan (larutan, sol, atau suspensi) mengalir melalui nosel, alat atomisasi yang bergetar menghasilkan getaran. Ketika amplitudo getaran melebihi tegangan permukaan cairan, cairan tersebut dipecah menjadi tetesan berukuran mikron.

3. Pengiriman Gas Pembawa:

Tetesan yang teratomisasi kemudian diangkut secara merata ke permukaan substrat oleh sejumlah gas pembawa yang telah ditentukan (seperti udara).

4. Deposisi Film Tipis:

Tetesan diendapkan pada substrat, membentuk lapisan film tipis yang kontinu.

Keuntungan dalam Aplikasi Semikonduktor

Presisi dan Keseragaman Tinggi:

Kemampuan untuk mengendapkan lapisan film tipis yang sangat tipis dan seragam sangat penting untuk aplikasi dalam manufaktur semikonduktor, seperti photoresist, film konduktif, dan film isolasi, yang membutuhkan presisi yang sangat tinggi.

Pengurangan Kehilangan Bahan:

Dibandingkan dengan penyemprotan tradisional, penyemprotan ultrasonik hampir tidak menghasilkan pantulan tetesan atau percikan berlebihan, meningkatkan pemanfaatan bahan beberapa kali lipat, sehingga sangat cocok untuk melapisi bahan mahal.

Penyemprotan Lembut:

Proses penyemprotan lembut dan tidak merusak substrat, sehingga cocok untuk bahan semikonduktor yang rapuh dan komponen elektronik.

Nosel yang Beragam:

Nosel dengan berbagai lebar, panjang, bentuk, dan laju aliran dapat dipilih untuk memenuhi persyaratan aplikasi tertentu, memungkinkan pelapisan seragam pada area lokal atau luas.